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湖南普照申请去除抛光液的清洗装置及清洗方法专利避免清洗基板时出现不良影响

作者:小编    发布时间:2024-10-25 12:08:26    浏览:

  湖南普照申请去除抛光液的清洗装置及清洗方法专利避免清洗基板时出现不良影响金融界2024年10月16日消息,国家知识产权局信息显示博鱼官方网站,湖南普照信息材料有限公司申请一项名为“一种去除抛光液的清洗装置及清洗方法”的专利,公开号 CN 118768278 A,申请日期为2024年6月。

  专利摘要显示,本发明公开了一种去除基板抛光液的清洗方法,包括:将基板进行高压水清洗,具体为,对水加压形成水射流,水射流通过弧形喷口对基板进行机械力冲洗;对高压水清洗后的基板进行刷洗,具体为,旋转基板并用毛刷对基板进行刷洗,所述毛刷在水平方向进行自转运动,且所述毛刷的旋转方向与基板的旋转方向相反;对刷洗后的基板进行冲淋,具体为,对基板正面进行热水或常温水冲淋,对基板背面进行常温水喷淋;对清洗后的基板进行干燥。通过该清洗装置及方法能避免人工擦拭去除颗粒的方式造成用力不均匀,及对衬底产生破坏性的影响;同时也能避免采用水冲或擦拭无法干燥或干燥不均匀的问题。

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